Silhanek A.
21
Coauthors
3
Documentos
Volumen de publicaciones por año
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| Año de publicación | Num. Publicaciones |
|---|---|
| 1999 | 1 |
| 2001 | 1 |
| 2019 | 1 |
Publicaciones por áreas de conocimiento
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| Área de conocimiento | Num. Publicaciones |
|---|---|
| Ciencia de materiales | 4 |
| Campo magnético | 1 |
| Magnetismo | 1 |
| Nanostructura | 1 |
| Física | 1 |
Publicaciones por áreas temáticas
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| Área temática | Num. Publicaciones |
|---|---|
| Electricidad y electrónica | 2 |
| Física aplicada | 2 |
| Magnetismo | 1 |
| Química inorgánica | 1 |
| Ingeniería y operaciones afines | 1 |
| Tecnología de otros productos orgánicos | 1 |
| Poesía americana en inglés | 1 |
Principales fuentes de datos
| Origen | Num. Publicaciones |
|---|---|
| Scopus | 3 |
| Google Scholar | 1 |
| RRAAE | 0 |
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Coautores destacados por número de publicaciones
| Coautor | Num. Publicaciones |
|---|---|
| Dario Niebieskikwiat | 2 |
| Civale L. | 2 |
| Florea I. | 1 |
| Vlad A. | 1 |
| Avila Osses J. | 1 |
| Ersen O. | 1 |
| Darwin Caina | 1 |
| Luciano M. | 1 |
| Bahri M. | 1 |
| Stopin A. | 1 |
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Top Keywords
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Publicaciones del autor
Anomalous behavior of the irreversible magnetization and time relaxation in (formula presented) single crystals with splayed tracks
ArticleAbstract: We have studied the angular dependence of the irreversible magnetization and its time relaxation inPalabras claves:Autores:Civale L., Dario Niebieskikwiat, Silhanek A.Fuentes:scopusSuppression of matching field effects by splay and pinning energy dispersion in YBa<inf>2</inf>Cu<inf>3</inf>O<inf>7</inf>
ArticleAbstract: We report measurements of the irreversible magnetization Mi of a large number of YBa2Cu3O7 single crPalabras claves:Autores:Civale L., Dario Niebieskikwiat, Krusin-Elbaum L., Levy P., Nieva G., Silhanek A.Fuentes:scopusKinked Silicon Nanowires: Superstructures by Metal-Assisted Chemical Etching
ArticleAbstract: We report on metal-assisted chemical etching of Si for the synthesis of mechanically stable, hybridPalabras claves:Finite-element modeling, metal-assisted chemical etching, silicon nanowiresAutores:Avila Osses J., Bahri M., Bonifazi D., Darwin Caina, Ersen O., Florea I., Gabriele S., Gohy J.F., Leclère P., Luciano M., Melinte S., Sandu G., Silhanek A., Stopin A., Vlad A.Fuentes:googlescopus