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Publisher: "EPJ Applied Physics"

Subtipo de publicación

Article(2)

Área temáticas

Ingeniería y operaciones afines(2)
Física(1)
Física aplicada(1)

Área de conocimiento

Ciencia de materiales(2)
Película delgada(1)

Objetivos de Desarrollo Sostenible

ODS 12: Producción y consumo responsables(1)
ODS 8: Trabajo decente y crecimiento económico(1)
ODS 9: Industria, innovación e infraestructura(1)

Año de Publicación

2014(1)
2016(1)

Origen

scopus(2)
  • (1011) preferential orientation of polycrystalline AlN grown on SiO<inf>2</inf>/Si wafers by reactive sputter magnetron technique

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    Article
    Abstract: Aluminum nitride (AlN) is a ceramic compound that could be used as a processing material for semicon
    Palabras claves:
    Autores:
    Bemporad E., Bolmaro R., Burgi J., Craievich A.F., Feugeas J.N., Javier García Molleja, Piccoli M.
    Fuentes:
    scopus
  • Depth profiling and morphological characterization of AlN thin films deposited on Si substrates using a reactive sputter magnetron

    avatar
    Article
    Abstract: It is well-known that the characteristics of aluminum nitride thin films mainly depend on their morp
    Palabras claves:
    Autores:
    Bemporad E., Brusa R.S., Burgi J., Feugeas J.N., Javier García Molleja, MacChi C., Mariazzi S., Piccoli M., Somoza A.
    Fuentes:
    scopus
    1
  • 1

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