Coy L.E.
55
Coauthors
9
Documentos
Volumen de publicaciones por año
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Año de publicación | Num. Publicaciones |
---|---|
2015 | 1 |
2017 | 2 |
2018 | 2 |
2019 | 2 |
2021 | 2 |
Publicaciones por áreas de conocimiento
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Área de conocimiento | Num. Publicaciones |
---|---|
Ciencia de materiales | 13 |
Electroquímica | 4 |
Biomateriales | 2 |
Biotecnología | 1 |
Biomedicina | 1 |
Publicaciones por áreas temáticas
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Área temática | Num. Publicaciones |
---|---|
Ingeniería y operaciones afines | 8 |
Fabricación | 4 |
Física aplicada | 2 |
Química física | 2 |
Medicina y salud | 2 |
Metalurgia y productos metálicos primarios | 1 |
Materiales de construcción | 1 |
Tecnología cerámica y afines | 1 |
Cirugía y especialidades médicas afines | 1 |
Principales fuentes de datos
Origen | Num. Publicaciones |
---|---|
Scopus | 9 |
Google Scholar | 0 |
RRAAE | 0 |
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Coautores destacados por número de publicaciones
Coautor | Num. Publicaciones |
---|---|
William Arnulfo Ch Aperador | 9 |
Yate L. | 8 |
Olaya-Flórez J.J. | 3 |
Macías H.A. | 3 |
Wang G. | 3 |
Valencia D.P. | 2 |
Pan H. | 2 |
Moya S.E. | 2 |
Li Y. | 1 |
Zhang X. | 1 |
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Top Keywords
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Publicaciones del autor
Robust tribo-mechanical and hot corrosion resistance of ultra-refractory Ta-Hf-C ternary alloy films
ArticleAbstract: In this work we report the hot corrosion properties of binary and ternary films of the Ta-Hf-C systePalabras claves:Autores:Coy L.E., William Arnulfo Ch Aperador, Yate L.Fuentes:scopusEffect of nitrogen flow ratio on microstructure, mechanical and tribological properties of TiWSiN <inf>x</inf> thin film deposited by magnetron co-sputtering
ArticleAbstract: We investigate the deposition of TiWSiN x thin films by means of the method of reactive magnetron coPalabras claves:Co-sputtering, Mechanical properties, TiWSiN films x, WearAutores:Coy L.E., Macías H.A., Olaya-Flórez J.J., William Arnulfo Ch Aperador, Yate L.Fuentes:scopusHigh Electrocatalytic Response of Ultra-refractory Ternary Alloys of Ta-Hf-C Carbide toward Hydrogen Evolution Reaction in Acidic Media
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ArticleAbstract: A Taguchi L16(45) orthogonal array design was selected to determine the influence of the depositionPalabras claves:Co-sputtering, CORROSIÓN, Silicon nitride, Taguchi method, TiWSiN thin films, WearAutores:Coy L.E., Macías H.A., Olaya-Flórez J.J., William Arnulfo Ch Aperador, Yate L.Fuentes:scopus