Cabellos J.L.
38
Coauthors
3
Documentos
Volumen de publicaciones por año
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Año de publicación | Num. Publicaciones |
---|---|
2012 | 1 |
2013 | 1 |
2014 | 1 |
Publicaciones por áreas de conocimiento
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Área de conocimiento | Num. Publicaciones |
---|---|
Ciencia de materiales | 3 |
Física | 2 |
Nanostructura | 1 |
Fotovoltaica | 1 |
Química teórica | 1 |
Ingeniería energética | 1 |
Publicaciones por áreas temáticas
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Área temática | Num. Publicaciones |
---|---|
Física aplicada | 2 |
Química física | 2 |
Química analítica | 1 |
Principales fuentes de datos
Origen | Num. Publicaciones |
---|---|
Scopus | 3 |
Google Scholar | 3 |
RRAAE | 0 |
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Coautores destacados por número de publicaciones
Coautor | Num. Publicaciones |
---|---|
Rubio A. | 3 |
Duncan John Mowbray | 3 |
de Oteyza D.G. | 2 |
Ortega J.E. | 2 |
Rogero C. | 2 |
El-Sayed A. | 2 |
Floreano L. | 2 |
Goiri E. | 2 |
Barth J.V. | 1 |
Ivleva N.P. | 1 |
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Top Keywords
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Publicaciones del autor
Understanding charge transfer in donor-acceptor/metal systems: A combined theoretical and experimental study
ArticleAbstract: We develop an effective potential approach for assessing the flow of charge within a two-dimensionalPalabras claves:Autores:Cabellos J.L., de Oteyza D.G., Duncan John Mowbray, El-Sayed A., Floreano L., Goiri E., Ortega J.E., Rogero C., Rubio A.Fuentes:googlescopusUnderstanding energy-level alignment in donor-acceptor/metal interfaces from core-level shifts
ArticleAbstract: The molecule/metal interface is the key element in charge injection devices. It can be generally defPalabras claves:energy-level alignment, Fermi-level pinning, metal-organic interfaces, molecular blends, vacuum-level pinning, XPSAutores:Borghetti P., Cabellos J.L., de Oteyza D.G., Duncan John Mowbray, El-Sayed A., Floreano L., Goiri E., Lovat G., Ortega J.E., Rogero C., Rubio A., Wakayama Y.Fuentes:googlescopusPhotoinduced C-C reactions on insulators toward photolithography of graphene nanoarchitectures
ArticleAbstract: On-surface chemistry for atomically precise sp2 macromolecules requires top-down lithographic methodPalabras claves:Autores:Barth J.V., Berger R., Bjork J., Cabellos J.L., Diller K., Duncan John Mowbray, Feng X., Ivleva N.P., Klappenberger F., Margapoti E., Matich S., Menges B., Müllen K., Niessner R., Palma C.A., Papageorgiou A.C., Räder H.J., Reichert J., Rubio A., Welle A.Fuentes:googlescopus