Jouan P.Y.
33
Coauthors
4
Documentos
Volumen de publicaciones por año
Cargando gráfico
| Año de publicación | Num. Publicaciones |
|---|---|
| 2013 | 1 |
| 2015 | 1 |
| 2017 | 1 |
| 2019 | 1 |
Publicaciones por áreas de conocimiento
Cargando gráfico
| Área de conocimiento | Num. Publicaciones |
|---|---|
| Ciencia de materiales | 7 |
| Película delgada | 2 |
| Ingeniería electrónica | 1 |
Publicaciones por áreas temáticas
Cargando gráfico
| Área temática | Num. Publicaciones |
|---|---|
| Física aplicada | 3 |
| Magnetismo | 2 |
| Ingeniería y operaciones afines | 2 |
| Metalurgia | 1 |
| Química inorgánica | 1 |
| Luz y radiaciones afines | 1 |
| Electricidad y electrónica | 1 |
Principales fuentes de datos
| Origen | Num. Publicaciones |
|---|---|
| Scopus | 4 |
| Google Scholar | 0 |
| RRAAE | 0 |
Cargando gráfico
Coautores destacados por número de publicaciones
| Coautor | Num. Publicaciones |
|---|---|
| Javier García Molleja | 4 |
| Burgi J. | 2 |
| Feugeas J.N. | 2 |
| Djouadi M.A. | 2 |
| Goullet A. | 2 |
| Richard-Plouet M. | 2 |
| Keraudy J. | 2 |
| Ferrec A. | 2 |
| Corraze B. | 2 |
| Gautron E. | 1 |
Cargando gráfico
Top Keywords
Cargando gráfico
Publicaciones del autor
Structural, morphological and electrical properties of nickel oxide thin films deposited by reactive sputtering
ArticleAbstract: This paper is devoted to the study of the influence of oxygen content in the nickel oxide films on tPalabras claves:C-AFM, DC reactive sputtering, Electrical characterization, Nickel oxide, Nickel vacancyAutores:Corraze B., Ferrec A., Goullet A., Javier García Molleja, Jouan P.Y., Keraudy J., Richard-Plouet M.Fuentes:scopusAIN thin films deposited by DC reactive magnetron sputtering: Effect of oxygen on film growth
ArticleAbstract: Aluminum nitride is a ceramic compound with many technological applications in many fields, for examPalabras claves:Autores:Abdallah B., Burgi J., Djouadi M.A., Ferrón J., Feugeas J.N., Gautron E., Gõmez B.J., Javier García Molleja, Jouan P.Y.Fuentes:scopusProcess- and optoelectronic-control of NiO<inf>x</inf> thin films deposited by reactive high power impulse magnetron sputtering
ArticleAbstract: In this contribution, based on the analyses of the discharge behavior as well as final properties ofPalabras claves:Autores:Corraze B., Delfour-Peyrethon B., Ferrec A., Goullet A., Hamon J., Javier García Molleja, Jouan P.Y., Keraudy J., Payen C., Richard-Plouet M.Fuentes:scopusSynchrotron radiation applied to real-Time studies of the kinetics of growth of aluminum nitride thin multilayers
ArticleAbstract: This article reports the design, construction, and first use of an experimental device consisting ofPalabras claves:Autores:Bemporad E., Burgi J., Craievich A.F., De Felicis D., Djouadi M.A., Feugeas J.N., Javier García Molleja, Jouan P.Y., Kellermann G., Neuenschwander R., Piccoli M.Fuentes:scopus