Palabras claves: Finite-element modeling, metal-assisted chemical etching, silicon nanowires
Autores: Avila Osses J., Bahri M., Bonifazi D., Darwin Caina, Ersen O., Florea I., Gabriele S., Gohy J.F., Leclère P., Luciano M., Melinte S., Sandu G., Silhanek A., Stopin A., Vlad A.