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Determinación de dos formas de aplicación de silicio con cinco dosis en el cultivo de arroz Oryza sativa L.

Abstract:

El experimento se lo efectuó en la época de invierno del 2015 en el cantón El Triunfo. Los objetivos planteados fueron los siguientes: 1) Determinar la mejor dosis de silicioaplicada por vía edáfica en la variedad de arroz INIAP 15, 2) Determinarla mejor dosis de silicio aplicadapor la vía foliar en la variedad INIAP 15 , 3) Conocer la factibilidad económica del uso de estas prácticas de aplicación de nutrientes en el cultivo. Los factores estudiados fueron dos formas de aplicación de silicio foliar y edáfica (en la base de la planta) y cinco dosis del mismo producto (0.0, 0.5, 1.0, 1,5 y 2.0 L/ha) que fueron aplicados a los 20días después de la siembra, se midieron nueve variables agronómicas. Las conclusiones de este trabajo fueron: a) Las aplicaciones de silicio a los 20 días después de la siembra en la base de la planta presentaron mayor rendimiento de grano paddy en todos los tratamientos donde se aplicó silicio usando como fuente sililo; b) La interacción mostró los mayores promedios de altura de planta en aquellas combinaciones de tratamiento donde se aplicó en forma foliar en dosis de 1 L/ha de sililo y en aplicaciones edáficas con la dosis de 1.5 L/ha y c) La mayor Tasa Marginal de retorno (TMR) fue para el tratamiento 7 (F2-D2 silicio aplicado a la base de la planta en dosis de 0,5 L/ha).