Recubrimientos De TiN realizados mediante magnetrón

Abstract:

Se presentan los resultados obtenidos en el crecimiento de películas delgadas de Nitruro de titanio crecidas en fase reactiva sobre sustratos de acero AISI M2, mediante la técnica de magnetrón rf. Los depósitos de TiN fueron realizados a una presión de 10-1mbar en una atmósfera de N2 y Ar, y como parámetro de estudio se toma la potencia incidente sobre el blanco de Ti (99.9). Las películas obtenidas fueron caracterizadas mediante la técnica de difracción de rayos X. El estudio de los difractogramas muestra que a potencias entre 450 y 550 W existen dos planos preferenciales de crecimiento el (111) y el (200) ya potencias entre 750 crece en forma predominante el plano (111).

Año de publicación:

2003

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