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Study of low-K film repair and pore sealing using chlorosilanes dissolved in supercritical carbon dioxide

Abstract:

Año de publicación:

2007

Keywords:

    Fuente:

    scopusscopus

    Tipo de documento:

    Other

    Estado:

    Acceso restringido

    Áreas de conocimiento:

    • Película delgada
    • Ciencia de materiales
    • Ciencia de materiales

    Áreas temáticas de Dewey:

    • Física aplicada
    • Ingeniería química
    • Química inorgánica
    Procesado con IAProcesado con IA

    Objetivos de Desarrollo Sostenible:

      Procesado con IAProcesado con IA

      Contribuidores:

      Estévez L.A.Estévez L.A.
      Eduardo VyhmeisterEduardo Vyhmeister
      Muscat A.J.Muscat A.J.
      Suleiman D.Suleiman D.
      Lischen ChoateLischen Choate